服务电话：
新闻中心
您当前的位置：首页 > 新闻中心
-
31
2025-12
星期 三
-
无锡第三代半导体管式炉三氯化硼扩散炉 赛瑞达智能电子装备供应
管式炉的工艺监控依赖多维度传感器数据：①温度监控采用S型热电偶（精度±0.5℃），配合PID算法实现温度稳定性±0.1℃；②气体流量监控使用质量流量计（MFC，精度±1%），并通过压力传感器（精度±0.1%）实时校正；③晶圆状态监
-
31
2025-12
星期 三
-
无锡国产管式炉氧化退火炉 赛瑞达智能电子装备供应
在钙钛矿太阳能电池制备中，管式炉的退火工艺决定了薄膜的结晶质量。通过30段可编程控温系统，可实现80℃/min快速升温至150℃，保温5分钟后再以20℃/min降至室温的精细化流程，使CH₃NH₃PbI₃薄膜的结晶度从78%提升至
-
31
2025-12
星期 三
-
无锡一体化管式炉生产厂商 赛瑞达智能电子装备供应
管式炉具备精确的温度控制能力，能够将温度精度控制在极小的范围内，满足3D-IC制造中对温度稳定性的苛刻要求。在芯片键合工艺中，需要精确控制温度来确保键合材料能够在合适的温度下熔化并实现良好的连接，管式炉能够提供稳定且精确的温度环境
-
30
2025-12
星期 二
-
无锡一体化管式炉三氯化硼扩散炉 赛瑞达智能电子装备供应
随着半导体技术朝着更高集成度、更小尺寸的方向不断发展，极紫外光刻（EUV）等先进光刻技术逐渐成为行业主流。在EUV技术中，高精度光刻胶的性能对于实现高分辨率光刻起着关键作用，而管式炉在光刻胶的热处理工艺中能够发挥重要的优化助力作用
-
30
2025-12
星期 二
-
无锡国产管式炉化学气相沉积CVD设备TEOS工艺 赛瑞达智能电子装备供应
智能化是管式炉的重要发展趋势，新一代设备融合AI算法与物联网技术，实现工艺数据库、自学习控制与预测性维护的一体化。通过采集大量工艺数据建立模型，系统可根据材料特性自动生成理想加热曲线，在石墨烯沉积等工艺中，经20次自适应迭代即可将
推荐资讯